DIN 50453-2:1990-10

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method

Traduction automatique de l'anglais :
Essais de matériaux pour la technologie des semi-conducteurs - Détermination des vitesses de gravure des mélanges de gravure - Partie 2 : Revêtement de dioxyde de silicium, méthode optique

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicium-dioxid coating, optical method

Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method