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NF EN 62047-16, C96-050-16 (11/2015)
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16 : test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods
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Summary
Le présent document définit les méthodes d'essai permettant de mesurer les contraintes résiduelles des films dont l'épaisseur se situe dans la plage de 0,01 micron m à 10 micron m dans des structures fabriquées de microsystèmes électromécaniques (MEMS) au moyen des méthodes de la courbure de la plaquette ou de déviation de poutre en porte-à-faux.
Technical characteristics
| Publisher | Association Française de Normalisation (AFNOR) |
| Publication Date | 11/01/2015 |
| Release Date | 11/01/2015 |
| Page Count | 15 |
| Themes | Electrotechnologies |
| EAN | --- |
| ISBN | --- |
| Weight (in grams) | --- |
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