Active
Standard
Most Recent
NF EN 62047-25, C96-050-25 (12/2016)
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 25 : silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of pull-press and shearing strength of micro bonding area
Preview
Summary
Le présent document spécifie la méthode d'essai in situ pour mesurer la résistance de brasure d'une microzone de brasure fabriquée par des technologies de micro-usinage utilisées dans un système microélectromécanique (MEMS) à base de silicium. Le présent document s'applique à la mesure in situ de la résistance à la traction-compression et de la résistance au cisaillement d'une microzone de brasure fabriquée par un processus microélectronique et d'autres technologies de micro-usinage.
Technical characteristics
| Publisher | Association Française de Normalisation (AFNOR) |
| Publication Date | 12/01/2016 |
| Release Date | 12/01/2016 |
| Page Count | 27 |
| Themes | Electrotechnologies |
| EAN | --- |
| ISBN | --- |
| Weight (in grams) | --- |
No products.