NF ISO 23812, X21-066 (06/2009)

Le présent document spécifie une méthode d'étalonnage de la profondeur pour le silicium, à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples. Ce mode opératoire permet l'étalonnage de l'échelle de profondeur dans une région de faible profondeur, inférieure à 50 nm, lors du profilage en profondeur SIMS. Le présent document s'applique au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe. Il ne s'applique pas au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe.